▲KRISS가 개발한 InAsP 소재 기반 SWIR 센서(좌)와 반응 스펙트럼(우) (좌) 실제 제작된 다양한 면적의 InAsP 검출 소자와 냉각 모듈과 함께 진공 포장된 SWIR 센서 (우) InGaAs 소재 기반의 센서(보라색)보다 InAsP 소재 기반의 센서(주황색)가 넓고(분홍색 영역) 우수한(하늘색 영역) 반응 스펙트럼을 보인다.
KRISS 제공
이에 KRISS 연구진은 InP 기판 위에 인듐-아세닉-포스파이드(InAsP)를 광 흡수층으로 성장시킨 InAsP 소재를 새롭게 개발해 냈다.
KRISS 연구진은 "기존 InGaAs 소재보다 상온에서 신호 대비 잡음이 낮아 신뢰도가 높고, 성능 저하 없이 광검출 가능한 대역도 1.7 μm에서 2.8 μm까지 넓어졌다"면서 "기술의 핵심은 격자 불일치를 완화하는 메타모픽(Meta-Morphic, 격자이완층)을 제작해 도입한 것"이라고 강조했다.
이어 "두 박막(기판과 광 흡수층) 사이에 As와 P의 비율을 단계적으로 조성한 메타모픽 구조를 삽입했고, 이는 물성과 격자 크기가 다른 두 박막이 직접 충돌하지 않도록 완충 역할을 한다"면서 "그 결과, 격자 변형을 크게 완화해 높은 품질은 유지하면서 밴드갭(band gap)을 유연하게 조절할 수 있는 신소재를 개발했다"고 설명했다.
밴드갭이란 전자가 모여있는 공간과 전자가 없는 공간 사이의 틈을 말하며, 밴드갭이 넓을수록 전자의 이동성이 우수하고 낮은 결함 밀도를 갖는다고 한다.
이상준 KRISS 반도체디스플레이측정그룹 책임연구원은 "화합물 반도체 소재는 국가 전략물자로 해외 수입이 쉽지 않아 독자적인 기술 확보가 필요하다"면서 "이번 개발한 소재는 즉시 상용화 가능한 수준으로 전투기용 레이더, 의약품 결함 검사, 폐플라스틱 재활용 공정 등 미래산업 분야에 폭넓게 활용될 것"이라고 기대를 전했다.
한편, 이번 연구는 과학기술정보통신부(장관 이종호) 차세대화합물반도체 핵심기술개발 사업의 지원을 받아 수행됐으며, 연구 성과는 세계적인 학술지인 <Advanced Functional Materials(IF: 19)>에 지난 2월 26일자로 오프라인 게재됐다.

▲ KRISS 이상준 책임연구원(좌)과 전병선 책임연구원(우)이 자체 개발한 InAsP 소재 제작을 위한 성장 조건들을 확인하고 있다.
KRISS 제공
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