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▲ 하이닉스, 20나노급 64기가비트(Gb) 제품 개발 성공
하이닉스의 20나노 낸드플래시 개발 발표는 이달 초 인텔과 마이크론의 합작사인 IM플래시테크놀로지에 이어 세계 두번째다. 30나노급 32Gb 낸드플래시를 개발한 지 꼭 6개월 만이다.
지난 2007년 당시 30나노급에서 삼성전자와의 기술개발 속도가 1년 이상 차이 났던 하이닉스였던 것을 감안하면 꽤나 무서운 반격이다.
반면, 경쟁 업체들의 추격과 '황의 법칙' 포기에도 불구하고 삼성은 느긋한 표정으로 별 문제없다는 입장이다. 삼성전자 관계자에 따르면 "20나노 기술은 2009년 10월에 연구를 끝내고 1월에 양산 기술까지 개발된 상태이다. 단지 발표 시기만 늦췄을 뿐이며, 20나노 낸드 플래시는 상반기 중 양산된다"고 밝혔다. 이를 따르면 여전히 하이닉스에 비해 1분기 이상 앞서는 셈이다.
이제 삼성과 경쟁 업체들의 기술력 차이는 상당히 좁혀졌다. 황 전 사장이 2008년 9월 "반도체 미세화에는 한계가 있고 앞으로 미세화의 속도는 늦어질 것이다"고 밝혔던 것이 실현된 것일까? 아니면 단순한 정책 수정일까? 어찌되었건 세계 정상의 자리는 내 놓지 않기를 바란다.
덧붙이는 글 | 이 기사는 케이벤치에서 제공 합니다.
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